多源有机无机蒸发系统400A多源蒸发镀膜机公司
多源有机无机蒸发系统
想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯,请持续关注本公司。
主要用途:
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标:
极限真空度5
400A多源蒸发镀膜机公司
多源有机无机蒸发系统400A多源蒸发镀膜机公司
多源有机无机蒸发系统
想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯,请持续关注本公司。
主要用途:
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标:
极限真空度5.0×10-5Pa,系统漏率:1×10-7PaL/S; 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa
真空室:D形真空室,尺寸350× 380mm
样品台:尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品;
电极:数量:4支水冷结构;直径Φ20㎜
样品基片:,基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统:基片挡板与源挡板;靶挡板共有3套, 样品挡板(1套)
石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司!
小方分子提纯设备400A多源蒸发镀膜机公司
小方分子提纯设备
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
极限真空≤610-4Pa,工作压力≤2*10-3Pa;
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室:腔室尺寸约为Φ50×350mm,石英材料,圆柱形结构。
抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;
样品可加热,加热温度为:200-600℃;
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容,请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
电阻蒸发镀膜设备
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电阻热蒸发镀膜产品供应商,我们为您带来以下信息。
应用领域:
设备应用广泛,主要用于汽车反光网、烫钻、工艺品、首饰、鞋帽、钟表、灯具、装饰、手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键、化妆品外壳、玩具、圣诞礼品等行业;
镀制材料及效果:可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PVC、尼龙、金属、玻璃、陶瓷、TPU等;可镀制效果有:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀拉丝、雨滴、五彩等。
(作者: 来源:)