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铭牌曝光显影工艺团队在线服务

原理是采用化学和金属材料的分子架构进行分解,终形成镂空和成型的效果,金属蚀刻加工工艺能很好的解决加工直径0.1mm小孔,直径0.15mm小孔,直径0.2mm小孔,直径0.3mm小孔所产生的问题。 金属蚀刻能加工任何金属材料的各种不同截面形状的小孔,小孔径或槽宽可达5μ,尺寸精度可达2μm,表面粗糙度达Ra0.32μm,金属蚀刻小孔磨削可达Ra0.08μm,所以可加工薄壁、弹性件等低刚度零
铭牌曝光显影工艺

原理是采用化学和金属材料的分子架构进行分解,终形成镂空和成型的效果,金属蚀刻加工工艺能很好的解决加工直径0.1mm小孔,直径0.15mm小孔,直径0.2mm小孔,直径0.3mm小孔所产生的问题。

金属蚀刻能加工任何金属材料的各种不同截面形状的小孔,小孔径或槽宽可达5μ,尺寸精度可达2μm,表面粗糙度达Ra0.32μm,金属蚀刻小孔磨削可达Ra0.08μm,所以可加工薄壁、弹性件等低刚度零件,也可在斜面上加工,还可加工一些弯孔。






在连续的板子蚀刻中,蚀刻速率越一致,越能获得均匀蚀刻的板子。要达到这一要求,必须保证蚀刻液在蚀刻的全过程始终保持在的蚀刻状态。这就要求选择容易再生和补偿,蚀刻速率容易控制的蚀刻液。选用能提供恒定的操作条件和对各种溶液参数能自动控制的工艺和设备。通过控制溶铜量,PH值,溶液的浓度,温度,溶液流量的均匀性(喷淋系统或喷嘴以及喷嘴的摆动)等来实现。



工件经前处理合格后,即可进行氧化。在该工序中主要控制氧化电流及氧化时间,保证批量产品氧化质量的一致性。

①生产中必须保证导电极杆和电接头光洁干燥,确保导电性能良好。

②每天检查设备完好情况,保证工作缸溶液都处于工艺控制范围。批量生产的氧化缸中H2SO4及All浓度每天都要分析,协助工艺工程师做好氧化缸的调节工作。




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