氧化镁(MgO)单晶的熔点高达2800℃,是无残留气孔的高致密性材料。因其光透过率、折射率、热导率、电绝缘性、化学稳定性、机械强度等方面性能优异。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
氧化镁(MgO)
氧化镁晶体厂家
氧化镁(MgO)单晶的熔点高达2800℃,是无残留气孔的高致密性材料。因其光透过率、折射率、热导率、电绝缘性、化学稳定性、机械强度等方面性能优异。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
氧化镁(MgO)是一种典型的碱土氧化物,其晶体为岩盐结构,是研究晶体色心性质的重要材料,也是一种重要的光学及光电子学材料。氧化镁（MgO）是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
氧化镁(MgO)单晶是指MgO含量在99.95%以上，具有极强的耐高低温（高温2500℃，低温-270℃）抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。氧化镁(MgO)单晶广泛用于航空、航天、国1防通讯、医1疗器械、光学仪器、等离子电视机保护膜蒸发源等领域。在等离子显示屏PDP中更是理想的电板保护膜材料是决定PDP寿命的主要因素，同时对PDP的工作性能(亮度和光效记忆容量着火电压等)有较好影响。
氧化镁（MgO）是离子化合物，同样也是离子晶体，虽然一般来说，原子晶体的熔点的确比离子晶体高，但是这并不绝1对，键能较低的原子晶体熔点明显比键能高的离子晶体低。因为氧化镁是由氧离子和镁离子通过离子键结合成的.。单晶氧化镁是指MgO含量在99.95%以上，具有极强的耐高低温（高温2500℃，低温-270℃）抗腐蚀性、绝缘性和良好的导热性和光学性能、无色透明的晶体。
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