氧化锆(YSZ)单晶基片是zui早应用于高温超导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学稳定性好、成本低的特点。由于氧化锆(YSZ)材料具有高硬度，高强度，高韧性，极高的性及耐化学腐蚀性等等优良的物化性能，氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等各种领域获得广泛的应用。
氧化锆(YSZ)晶体单晶
氧化锆(YSZ)单晶基片是zui早应用于高温超导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学稳定性好、成本低的特点。由于氧化锆(YSZ)材料具有高硬度，高强度，高韧性，极高的性及耐化学腐蚀性等等优良的物化性能，氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等各种领域获得广泛的应用。
氧化锆由于ZrO2单晶需掺入钇（Y）以稳定其结构， 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂（含量约19%）的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低因而得以广泛应用。常温下保持立方相的氧化锆晶体，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830处，n≈2.149)，色散性强(~0.056)和化学稳定性好等特性。
氧化锆存在三种稳定度同素异晶体：单斜相，立方相和四方相。纯氧化锆的单斜相从室温到1170℃是稳定的，超过这一温度转变为四方相，然后在2370℃转变为立方相，直到2680℃发生融化。常温下保持立方相的氧化锆晶体，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830处，n≈2.149)，色散性强(~0.056)和化学稳定性好等特性。
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