ICP光谱分析仪公司厂家

钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数

1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm

2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）

3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器，小巧有效

5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管，降低了维护成本

8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有清洗功能

9. 实验数据稳定性良好：重复性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD

≤2.0%（大于3小时）

Plasma 2000 技术特点

1. 优异的光学系统

2. 固态有效射频发生器，体积更加小巧

3. 流程自动化，状态监控及自动保护

4. 科研级检测器，极高的紫外量子化效率

5. 强大分析谱线

6. 信息直观丰富

7. 多窗口多方法

8. 编辑功能强大

9. 智能谱图标定

10. 智能干扰矫正

想了解更多产品信息您可拨打公司热线进行咨询！钢研纳克竭诚为您服务！

钢研纳克：固态光源ICP，国产单道扫描ICP进入固态光源时代

稳健的全固态光源ICP光谱仪 钢研纳克 Plasma 1500

全固态射频发生器，体积小、，全自动负载匹配，速度快、精度高，全固态光源ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，具有优异的长期稳定性。

垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。

简洁的炬管安装定位设计，定位，的位置重现。

具有低功率待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。

实时监控仪器运行参数，以太网及CAN工业现场总线，保障通讯可靠。

由钢研纳克承担的重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。