洁净室的发展与现代工业、尖i端技术密切联系在一起。由于精密机械工业（如陀螺仪、微型轴承等加工）、半导体工业（如大规模集成电路生产）等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%，64为储存器仅2%。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。
光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点A
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洁净室的发展与现代工业、尖i端技术密切联系在一起。由于精密机械工业（如陀螺仪、微型轴承等加工）、半导体工业（如大规模集成电路生产）等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%，64为储存器仅2%。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。
光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点A、无尘车间
洁净度:LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。
在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。B、室内空气参数要求 ：(1)温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。(2)新风量大。由于这类车间内，人员比较多，可以根据以下数值应取下列的i大值：非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜 空气量≥40m3/h。(3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度及热湿平衡，需要较大的送风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数，是≥25次/h);如果是十万级，送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数，是≥15次/h)。
十万级和万级有多大差别十万级无尘车间和万级无尘车间的差别主要有以下几点因素决定
一、空间因素
空间因素有车间面积和车间层高两个方面组成，它直接影响内部装修围护的成本：彩钢板隔墙及天花面积;空调投入成本：所需空调负荷的区域体积、空调的送回风方式、空调的管路走向及空调末端的数量。
避免因空间原因导致的项目投资增加，筹建商可以从两个方面综合考虑：不同的生产工艺设备的工作空间(含移动、维护检修的高度或宽度余量);工作人i流及物流的空间走向。目前建筑遵循节地、节材、节能的原则，所以净化车间并不是越高大越好，筹建时切实的考虑自身生产工艺设备及流程，能有效的规避不必要的投资成本。
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