湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
旗下武汉离子渗氮研究所自1999年成立以来,即选择了,辉光离子渗氮炉作为主营产品,迄今已生产销售1200多台套各类辉光离子渗氮炉供国内外客户使用。公司是经科学技术1部认定的“火炬
离子氮化炉厂家
湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
旗下武汉离子渗氮研究所自1999年成立以来,即选择了,辉光离子渗氮炉作为主营产品,迄今已生产销售1200多台套各类辉光离子渗氮炉供国内外客户使用。
公司是经科学技术1部认定的“火炬计划重点高新技术企业”、是按高企认定新标准经湖北省高新技术企业认定管理工作协调小组认定的“高新技术企业”;在运行的射频辉光放电等离子体中,由于离子和电子迁移率的不同将导致阴极负偏压的形成,在阴极表面建立一个直流负偏压是进行射频溅射工艺的必要条件。
辉光离子氮化作为七十年代兴起的一种新型渗氮方法与一般的气体渗氮相比,辉光离子渗氮的特点有:渗氮速度较快,可适当缩短渗氮周期,离子氮化时间短,能缩短到气体氮化时间的1/3~2/3。渗氮层脆性小,离子氮化表面形成的白层很薄,甚至没有,另外引起的变形小,特别适宜于形状复杂的精密零件。离子轰击工件表面还产生阴极溅射,溅射出铁离子与氮离子化合形成氮化铁FeN,FeN重新附着在工件表面,然后分解为Fe2N和Fe3N并放出氮原子向工件内扩散。
两种靶电源不同之处:选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源,因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节,镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多;这种装置是具有辉光放电机构的加热渗碳室和油淬火室的双室型热处理炉。适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄,若相关参数选配合适,一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中,其优点是靶电源价格可以相对便宜。
次大气压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电;由于其特点,辉光发电应用于发射光谱分析,用作气体分析和难激发元素分析的激发光源。放电时电极两端的电压低而功率密度大;处理纺织品和碳纤维等材料时不会出现击穿和燃烧并且处理温度接近室温。次大气压辉光放电技术目前可用于低温材料、生物材料、异型材料的表面亲水处理和表面接枝、表面聚合、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成等工艺。由于是在次大气压条件下的辉光放电,处理环境的气氛浓度高,电子和离子的能量可达10eV以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。 可处理金属、非金属、(碳)纤维、金属纤维、微粒、粉末等。
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