化学气相沉淀化学气相沉淀 (CVD) 系统具有 多种配置用于沉积多种类型的薄膜。制程 还以不同的压力和流量状态运行，其中的许多状态 都使用含氟的干燥清洁制程。所有这些可变因素意味着您 需要咨询我们的应用工程师之一来选择适当的泵 和气体减排系统以便大程度地延长我们产品的维修间隔并 延长您制程的正常运行时间。气镇双位气镇可处理60g/hr水蒸汽，或高于同类产品的220g/h
爱德华真空泵报价
化学气相沉淀化学气相沉淀 (CVD) 系统具有 多种配置用于沉积多种类型的薄膜。制程 还以不同的压力和流量状态运行，其中的许多状态 都使用含氟的干燥清洁制程。所有这些可变因素意味着您 需要咨询我们的应用工程师之一来选择适当的泵 和气体减排系统以便大程度地延长我们产品的维修间隔并 延长您制程的正常运行时间。气镇双位气镇可处理60g/hr水蒸汽，或高于同类产品的220g/hr（在RV12上为290g/hr）水蒸汽。
干泵选择
CVD 制程通常需要通过选择适当的 干泵产品来克服四个特定挑战。这些挑战是：
粉末
许多制程会产生 大量粉末副产品。需要将真空泵设计成 能够处理这些粉末而不被卡住。在某些情况下，粉末实际上可能 很粘或需要高温运行才能确保粉末中夹带的其他 副产品不在泵内部冷凝并卡住泵机构。所有居于地位的制程工具OEM，以及每一家主要半导体工厂都采用了我们的系统，因为它们能够满足成熟制程与发展中制程的具体要求。 对于几乎所有产生粉末的制程，您将不得不使用 采用高扭矩电机的泵，以确保泵在应力下保持 旋转。
冷凝
半导体 制程的某些副产品含有气体，当气体分压 增加或与冷表面接触时，这些气体会从气 相变为固相。在泵送这些副产品时， 您将需要非常热的泵，是从入口到出口 具有尽可能一致的温度分布的泵。
腐蚀
有些制程 需要泵送卤化物。尤其是需要含氟的清洁制程来 保持舱室的清洁性，但被激的氟自由基 可能会侵蚀泵的内表面。如果制程主要使用 可能对泵造成腐蚀的化学品，您需要确保可以 将泵温度设置为一个较低值以降低腐蚀风险。我们的泵设计 具有可选的温度设和高旋转 速度以降低腐蚀风险并降低泵中不可避免 发生的总体材料损失速率。我们专注于真空领域的技术进展，并投资于研发，因此能够开发满足您的特定应用要求的产品。对于某些 CVD 制程，需要在温度设上 达到平衡，以确保避免任何冷凝问题， 同时不使腐蚀速度过高。
（作者： 来源：）
