全自动汽车灯具镀膜设备
全自动汽车灯具镀膜设备主要用于汽车灯具表面蒸镀铝反射膜和硅油保护膜，蒸镀灯具材料有PC、ABS、PBT、PP、PC+ABS ASA、PP+GF等。
功能包括：在真空室内一次完成高压离子轰击前处理、镀铝膜和镀二次保护膜等处理。超硬保护膜提高了铝层的能力和保持铝层长久的高反射率。所镀汽车灯具反射膜达到了汽车灯具，通过
电弧离子镀膜机
全自动汽车灯具镀膜设备
全自动汽车灯具镀膜设备主要用于汽车灯具表面蒸镀铝反射膜和硅油保护膜，蒸镀灯具材料有PC、ABS、PBT、PP、PC+ABS ASA、PP+GF等。
功能包括：在真空室内一次完成高压离子轰击前处理、镀铝膜和镀二次保护膜等处理。超硬保护膜提高了铝层的能力和保持铝层长久的高反射率。所镀汽车灯具反射膜达到了汽车灯具，通过了耐酸、耐碱、耐盐等试验。
设备采用计算机系统控制和监控设备运行状态和镀膜工艺过程（所监控的数据可以回放），采用PLC控制和触摸式人机界面，实现镀膜过程的全自动化，操作简单，提高了工作效率，保证了产品的稳定性和一致性，同时减少了人为因素影响。设备镀膜质量高，稳定可靠。
真空镀膜机附着力说明了什么
附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化且基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。
真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。
采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
真空镀膜设备中频磁控溅射知识
真空镀膜设备中频磁控溅射知识
源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
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