真空镀膜加工真空镀膜工厂
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真空镀膜工厂
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真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法如下：
①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律： R=pXL/S 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。
电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Q，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0～2.5Q。
真空镀膜
②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
计算公式为： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。 光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 OD值 电阻值 Ohm/Square方阻值 铝层厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600
PVD镀膜真空镀膜工厂
真空镀膜表面处理工艺后铝型材的特征
磨砂面料型材：磨砂面铝型材避免了光亮的铝合金型材在建筑装饰中存在环境、条件下会形成光的干扰的缺点，它的表面如锦缎一样细腻柔和，很受市场的青睐，但现有的磨砂材须克服表面砂粒不均匀，并能看到模纹的不足。
PVD镀膜技术的原理
PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
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