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金属真空镀膜加工来电咨询,东莞泰坦金属制品

真空镀膜厂家金属真空镀膜加工 真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法 随着基础工业及高新技术产品的发展,对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸,国内外在该领域与相关学科相互局势下, 表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法: 目视监控:使用眼睛监控,因为薄膜在生长的过程中,由于干涉现象会有颜色变化,我们就是根
金属真空镀膜加工







真空镀膜厂家金属真空镀膜加工

真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法

随着基础工业及高新技术产品的发展,对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸,国内外在该领域与相关学科相互局势下,

表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法:

目视监控:使用眼睛监控,因为薄膜在生长的过程中,由于干涉现象会有颜色变化,我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的,此种方式有误差,所以不是很准确,需要依靠经验。






真空镀膜加工金属真空镀膜加工

 真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。 1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer;Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD); 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。












对于真空镀膜加工单片膜色不均匀产生的原因

主要是由于基片凹凸严重,与伞片曲率差异较大,基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大,形成的膜厚差异大。

另外镜片被镜圈()边缘部遮挡、镜圈()脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。

改善思路:改善镜片边缘的蒸发角。

改善对策:

㈠条件许可,用行星夹具;

㈡选用伞片平坦(R大)的机台;

㈢根据伞片孔位分布,基片形状,制作专门的锯齿形修正板。

㈣如果有可能,把蒸发源往真空室中间移动,也可改善单片的膜色均匀性。㈤改善镜圈(),防止遮挡。

㈥注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡㈦清洁镜圈()㈧改善膜料蒸发状况。








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