在电子工业中的微电子产品或一些电子器件产品生产中需要一个房间或一条生产线，甚至数条生产线的主要工序均需设置在严于5级的洁净室内，才能达到产品生产的要求。一般照明的均匀度,食品工厂洁净厂房内一般生产车间的照度均匀度不宜小于0。为此，单向流洁净室的空间布置己从 “单层”布置发展到“多层”布置。“单层”布置的单向流洁净厂房，在单向流洁净生产区的上部、下部设有上下技术夹层，在上技术夹层内布置送风管
食品车间净化工程
在电子工业中的微电子产品或一些电子器件产品生产中需要一个房间或一条生产线，甚至数条生产线的主要工序均需设置在严于5级的洁净室内，才能达到产品生产的要求。一般照明的均匀度,食品工厂洁净厂房内一般生产车间的照度均匀度不宜小于0。为此，单向流洁净室的空间布置己从 “单层”布置发展到“多层”布置。“单层”布置的单向流洁净厂房，在单向流洁净生产区的上部、下部设有上下技术夹层，在上技术夹层内布置送风管道、部分公用动力管线，通过设在顶棚上的高1效过滤器向洁净生产区均匀送风。
对于半导体设备来讲，净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。因此，无尘室的理想自净时间Tr=体积/流率，到一定值后由于污染物的再卷入，再增大气流速度，实际的Tr并不再有明显的减少。微电子技术的核心是集成电路，而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。随着我国人民生活水平提高，人们对生存环境及生活质量提出了越来越高要求，用水纯化设备制备的高纯水已受到人们普遍欢迎，净化工程技术已开始进入千家万户，进入人们的现代生活。
为了保证净化工程的洁净度，确保产量，需尊从以下规程：净化工程应保持清洁，房间内不得有明显颗粒物存在，每天都必须进行清洁打扫，清洁时应由身着净化工程洁净工作服的人员先擦洗地面、墙面、天花和设备，然后用不产尘的干净抹布擦拭洁净室。为了保证净化工程的洁净度，确保产量人员必须经风淋室吹淋至少15秒后方能进入洁净室，在更衣间，应脱掉外套换洁净服和洁净帽和洁净鞋以及口罩，洁净工作服应选用质地光滑、防静电、不脱落纤维和颗粒性物质的材料。净化工程于该区域生产操作人员和经批准的人员进入，非经允许严禁人员随便出入，并且人员进出时要注意随时关门。
采用FFU系统,带ULPA(99.9995%,0.12μm)，出口风速为0.38m/s，其满布率为25%，这样室内平均气流速度为0.095m/s，在各有关推荐或参考值的下限下。在这里提醒大家的是自从我们的医1疗方面的改革条文GMP-2010发布之后，既推动了生物医1药和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。此无尘室工程的工艺加工在微环境内无尘室的人员亦较少，可以认为无尘室内发生较低，这种情况下采用低的气流速度可能是可取的。据报道，目前IEST对无尘室内气流速度推荐值的下限有所降低，如： ≤ISO5级：气流速度0.2～0.5m/s； ISO6级或5级（非单向流）；换气次数＞200次/h； ISO7级：换气次数20～200次/h; ISO8级：换气次数2～20次/h。
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