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真空镀膜之磁控溅射镀膜 ：
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，若电子具有足够的能量时， 则电离出离子和另一个电子（二次电子）。真空镀膜之磁控溅射镀膜：磁控溅射的基本原
LED灯杯注塑加工
佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
真空镀膜之磁控溅射镀膜 ：
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，若电子具有足够的能量时， 则电离出离子和另一个电子（二次电子）。真空镀膜之磁控溅射镀膜：磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极 （溅射靶） 并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在基片上形成薄膜， 二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
占空比：占空比是指脉冲偏压的通断时间比，占空比越大，同一个周期时间内偏压输出时间越长，增大占空比可以提高离子轰击的能量，有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度，但会提高工件的温升；减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。在夏季白天太阳直接照射时，与普通透明玻璃相比，可将向室内传递的太阳辐射热减少15%--70%。
真空度：真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。
真空镀膜的形式：蒸发镀膜
工艺原理：
1）在真空室中，膜料被加热变成蒸发原子，蒸发原子在真空条件下不与残余气
体分子碰撞而到达工件表面；
2）蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；
3）吸附原子在基材表面发生表面扩散。
磁控溅射：
原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的Zn0:A1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（DC）和射频溅射（IC）两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。
优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。
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