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薄膜干涉中两相干光的光程差公式为式中n为薄膜的折射率；t为入射点的薄膜厚度；θt为薄膜内的折射角；±λ/2 是由于两束相干光在性质不同的两个界面（一个是光疏-光密界面，另一是光密-光疏界面）上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。
等倾干
热喷无纺布生产线设备
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薄膜干涉中两相干光的光程差公式为式中n为薄膜的折射率；t为入射点的薄膜厚度；θt为薄膜内的折射角；±λ/2 是由于两束相干光在性质不同的两个界面（一个是光疏-光密界面，另一是光密-光疏界面）上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。
等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。聚酯薄膜由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等．比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹．薄膜厚度相同的地方形成同条干涉条纹，故称等厚干涉．牛顿环和楔形平板干涉都属等厚干涉．另一种称做等倾干涉．当不同倾角的光入射到折射率均匀，上、下表面平行的薄膜上时，同一倾角的光经上、下表面反射（或折射）后相遇形成同一条干涉条纹，不同的干涉明纹或暗纹对应不同的倾角，这种干涉称做等倾干涉．等倾干涉一般采用扩展光源，并通过透镜观察．
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜， 多名称：氧化镁（MgO)必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好的紫外线（UV）穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06， 166nm时K值为0.1， n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内（由于膜应力）500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰，MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。
由挤出机，模头，压延台，牵引收卷部分组成，用于小型样品试验使用。
★整机可采用PLC集中控制，实现参数设置，数据运算及反馈、报警等功能的自动化控制。
★本机采用流延工艺，以EVA 或PVB 为主要原料，辅以色母料和其他添加剂。
★生产的胶片对无机玻璃具有很强的黏结力，主要用于彩色安全夹层玻璃、艺术玻璃、装饰夹层玻璃等领域。
以EVA（乙烯共聚物）为主要原料，采用流延工艺，加热原料，挤出、压延、冷却成型后收卷。
EVA胶膜 是以VA含量为28%~33%的 EVA 树脂（乙烯与酯共聚物）为主要原料，添加各种改性助剂，
经过熔融挤出压延而成的胶膜。常温下不发粘，便于使用操作。
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