真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。
物理气相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
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真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。
物理气相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
由于选用物理气相堆积工艺可大幅度进步刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的一同，也对其运用范畴的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的运用进行了愈加深化的研究。
化学气相堆积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，凭仗气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，首要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。
真空镀膜(包括物理气相沉积和化学气相沉积等)就是通过各种手段把被镀物质转换为气态，在带钢表面形成薄膜镀层。理论上所有的金属、非金属、有机物都能通过这个方式形成镀层。
这种技术可以优化组合形成多工艺、具有很高灵活性的复合镀膜工艺，适应各种性能要求。因此，这种新技术的研发和实施将是钢铁企业表面技术和产品应对挑战的超佳战略。
链条隧道式传递机构的缺陷是，1、真空室之间的连接阀门需要较大尺寸，这样，不同真空室之间的气氛容易互串，进而降低镀膜质量、成品率等；2、需要较高的设计精度、加工水平，由于是柔性结构，容易出现匹配不准确，导致传送出现故障。真空镀膜机往复步进齿条推杆式传送机其传递过程为，固定在镀膜室顶上或底盘上（与公转盘同一侧）、并可以往复运动的齿轮G、齿条H－推杆机构，顺序实现自转工件杆Am从真空室M的公转盘Jm向真空室N的公转盘Jn的传递。齿轮、齿条所用的动力是通过轴密封在真空室外的电机来实现。为使自转工件杆脱离公转盘进入下一个公转盘，在公转盘与自转轴之间采用开放式连接，同时在固定于镀膜室内并维持自转的内齿轮盘相应位置开口，实现自转工件杆从镀膜室M传送到下一个镀膜室N。
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