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内容摘要：
聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光皮、CMP抛光垫，日本技术，生产，国内国际优势价格：
产品代号 主成份 含量 密度(g/cm3) 硬度(JIS-A)
SH66/77 CeO2 23-25% 0.45 77-80
SH57 Unfilled Unfilled 0.62 95
SH85 Fe2O3 7.7% 0.66 87
SH聚氨酯抛光垫的密度、硬度、厚度、孔隙率、添加成份、微孔沟......
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