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内容摘要：
PVD镀膜的具体原理是什么？答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。 金属真空镀膜底涂处于基材和真空镀层之间，其作用主要有：（1）通过底涂封闭基材，防止真空镀膜时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜质量;（2）塑料表面较粗糙，底涂预处理后，金属真空镀膜厂家，可通过涂层获得光滑平整的镜面效果;（3）在薄膜材料上预涂底漆可进一步加强薄膜的阻隔性;（4）预涂底漆有利于获得更厚的真空镀层，展现出更高的反射效果和力学性能;（5）某些表面极性较低的基材如PP等与镀层的附着力较差，通过底漆可获得较......
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