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内容摘要：
EDI设备的优点：在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，电子超纯水设备，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。 超纯水设备 知识点一：超纯水设备的工作原理。 超纯水设备是如何制取超纯水的呢其主要是对水施加一定的压力使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜，而溶解在水中的绝大部分无机盐、有机物以及细菌、病毒等无法截留在......
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