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内容摘要：
真空镀膜系统离子蒸发及溅射源 多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，真空镀膜公司，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。 真空镀膜系统真空镀膜工艺中的真空系统也并非单一的真空泵，而是为了获得镀膜工艺中所必须的真空度，就需要将不同的泵进行组合使用。一般而言，该组合方式为机械泵、油扩散泵、无油泵组（分子泵、冷凝泵、钛扩散吸附泵）、管道阀门冷阱、真空室、冷却系统和真空测量。真空泵油雾过滤器主要用在旋片式机械泵上面，降低排气对空气产生的污染，在机械泵前也有必要安装空滤，防止空气中的杂质与粉尘进入泵内污染泵油或者造成零部件的磨损。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形......
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