真空镀膜系统
离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,真空镀膜公司,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
真空镀膜系统
真空镀膜工艺中的真空系统也并非单一的真空泵,而是为了获得镀膜工艺中所必须的真空度,就需要将不同的泵进行组合使用。一般而言,该组合方式为机械泵、油扩散泵、无油泵组(分子泵、冷凝泵、钛扩散吸附泵)、管道阀门冷阱、真空室、冷却系统和真空测量。真空泵油雾过滤器主要用在旋片式机械泵上面,降低排气对空气产生的污染,在机械泵前也有必要安装空滤,防止空气中的杂质与粉尘进入泵内污染泵油或者造成零部件的磨损。
蒸发镀膜
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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