KT—Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。 控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 溅射电源 直流溅射电源 镀膜功能 0-999秒5段
