真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发，直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。主要特点/优势：★ ? ? 完全封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全；是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品；★ ? ? 前开门真空腔体，蒸镀，方便取放基片、更换蒸发舟、添
