真空蒸镀将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，泰州蒸镀，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，蒸镀薄膜，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，真空蒸镀工艺，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，
