产品简介： Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。 产品特性： &8226 27.12MHz高密度等离子制程 &8226 SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜 &8226 以CF4+
