环氧树脂SU-8曝光后烘烤（光刻胶的二次烘烤）第二次光刻胶烘烤称为 PEB（曝光后烘烤）。顾名思义，它是在紫外线照射后完成的。紫外线照射ji活了 SU-8 光刻胶中的光敏成分，但它需要能量来继续反应；这种烘焙带来了能量。至于软烘烤，有问题的一点是 SU-8 光刻胶内部的机械应力，因此必须稍微加热和冷却以尽可能减少这种应力。加热模式与软烘烤相同，第yi个平台是 65°
