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苏州科鲁斯特测控科技有限公司






LPE的硅外延层,以其良好的电学、光学及其生长特性,而在CVD无法胜任的领域应用前景诱人.目前,取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1] .场控制器件:CVD在硅器件的埋结制造中,因自掺杂而出现埋层尺寸增加,1260液相,密排栅极叉指制造也受到严重影响,而LPE因其可以消除自掺杂,而在这方面得到应用,尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造,1260液相厂家,其优点更为明显 [1] .




可兼容常规和超液相色谱:1260 Infinity II 四元泵和 1260 Infinity 二元泵能够在高 600 bar 的压力下运行,1260液相怎么用,非常适合用于 InfinityLab Poroshell 120 色谱柱分析型和半制备型纯化:1260 Infinity II 四元泵的宽流速范围(高 10 mL/min)完全支持标准应用和半制备型应用、的梯度:1260 Infinity II 二元泵是使用 LC/MS 以及仅 UV 的系统实现而的梯度的佳选择




这对器件几乎没有任何影响,因此可以用纯金、纯银作为溶剂,分别在400℃ ,845℃左右进行低温外延生长.不过太高的溶解度会引起淀积速率不易控制和熔体内自发成核等问题 [1] .硅LPE系统:LPE技术发展到现在,其广泛采用的系统是改进的浸渍系统和滑动舟系统,近期报道一种新颖的旋转坩埚系统(离心系统)也值得注意 [1] .苏州科鲁斯特测控科技有限公司苏州科鲁斯特测控科技有限公司




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