溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级，所以膜层的含气量要比蒸镀高.蒸镀不适用于高溶点材料，如钼，钨，~~等.因为溶点高，蒸发太慢，而溅射的速度比蒸镀快很多.溅射不适用于低硬度材料，蒸镀设备，如非金属材料.溅射不适用于非导电材料.蒸镀不能控制厚度，而溅射可以用时间控制厚度.蒸镀不适应大规模的生产.蒸镀的电子动能比溅射小很多，虽然含气量少，但是膜层易脱落，溅射的膜均匀，蒸镀的膜中心点厚，蒸镀薄膜，四周薄.在国内蒸镀工艺比溅射工艺成熟.当然还有很多，一会也说不完.就看你主要想知道什么. 真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别真空镀膜材料技术与湿式镀膜材料技术相比具有明显优点：? ?1、膜材和基体选材广泛，膜的厚度可以进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。? ?2、真空条件下制备薄膜，环境清洁，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。? 3、与基体附着强度好，蒸镀，膜层牢固。? 4、真空镀膜既不产生肺液也无环境污染。真空镀膜技术在电子学等方面主要用来制造电阻和电容元 件。小型高真空电阻蒸发镀膜设备-蒸镀电极★ ? ? 可镀110mm方形基片或15～25mm ITO/FTO玻璃25片，可定制一体化刻蚀掩膜板；★ ? ? 衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm；★ ? ? 良好的薄膜均匀性和重复性，可在线监测和控制蒸发速率、膜厚；★ ? ? 可沉积金属（Au， Ag， Al，真空蒸镀设备， Ca， Cu， Mg， Fe， Cr， Ni等）、非金属、化合物（MoO3， LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；★ ? ? 设备集成度高，结构紧凑，占地面积小（0.92平米）；设备配脚轮，方便移动和定位。 蒸镀薄膜|昆山达宇特(在线咨询)|蒸镀由昆山达宇特机电科技有限公司提供。蒸镀薄膜|昆山达宇特(在线咨询)|蒸镀是昆山达宇特机电科技有限公司（www.diat-tech.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：张总。 产品：昆山达宇特供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
