溅射镀膜的特点溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。溅射镀膜与真空镀膜相比，有如下特点:1.任何物质都可以溅射， 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;2.溅射薄膜与衬底的附着性好;3.溅射镀膜的密度高，孔少，膜层纯度高;4.膜层厚度可控性和重复性好。以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。 自动磁控溅射系统概述带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6'旋转平台，磁控镀膜机公司，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，磁控镀膜机，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，磁控镀膜机多少钱，额外的磁控管和衬底加热功能。以上就是关于磁控溅射产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！磁控溅射系统介绍想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。真空泵和测量装置：低真空：干泵和convectron真空规高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规5.控制系统：硬件：PLC和计算机触摸屏控制自动和手动沉积控制主要特点：射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积温度控制器：基底加热基底传送装置冷却系统 磁控镀膜机厂家-沈阳鹏程有限公司-磁控镀膜机由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司位于沈阳市沈河区凌云街35号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前沈阳鹏程在成型设备中享有良好的声誉。沈阳鹏程取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。沈阳鹏程全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。 产品：沈阳鹏程供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
