ICP刻蚀机的结构想要了解更多ICP刻蚀机的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。ICP设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。（1）预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。（2）刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。（3）供气系统供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，化学气相沉积设备，通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）准确的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。（4）真空系统真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。 物理气相沉积和化学气相沉积的区别化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，化学气相沉积设备公司，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜，又可按要求制造多成分的合金膜，化学气相沉积设备哪家好，成膜速度快，膜的绕射性好以上内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！ICP刻蚀机的操作及判断1. 确认万用表工作正常，量程置于200mV。2.冷探针连接电压表的正电极，热探针与电压表的负极相连。3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点，电压表显示这两点间的电压为正值，说明导电类型为P 型，刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。4.如果经过检验，任何一个边沿没有刻蚀合格，化学气相沉积设备价格，则这一批硅片需要重新装片，进行刻蚀。沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售ICP刻蚀机，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！ 沈阳鹏程真空技术-化学气相沉积设备价格-化学气相沉积设备由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。行路致远，砥砺前行。沈阳鹏程真空技术有限责任公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为成型设备具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功! 产品：沈阳鹏程供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
