无尘室温湿度控制方法：
1、无尘室温湿度维护管理。
①无尘室适当之正压保持（>0.5mmAq），万级洁净室厂家，做好施工工程之不漏气，人员设备、原材料搬入无尘室前先做好清洁擦拭等防尘动作，空气过滤器适当的管理和设置。
②隔间板、地板等无尘室材料的适当选用、制程设备的发尘抑制、生产自动化及人员不聚集、动作放松、洁净衣的管理、使用无尘室器等。
2、室内发尘不积留。
墙壁体应光滑无死角、无尘室需定期保养和清扫、制程设备四周应留有空间。
3、发生尘埃排除。
换气次数应足够，适当的空间布置以及污染源接排气和空调的气流速度须适当。
净化技术的设备发展
对于半导体设备来讲，净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的是集成电路，而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。
净化工程气压规定：
对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则：
1.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。对于乱流洁净室
由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，
不过对室内气流速度也有如下要求：
(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，万级洁净室，要求速度衰减更快，扩散角度更大。
(2)吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。
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