光学微电子净化工程解决方案:
2、光学微电子行业净化工程设计方案分析之水冷柜机+增压风柜+高1效送风口
缺点:
A.需要小面积的机房。需要有冷却塔、冷却水泵的摆放位置;
B.空调机组与空调处理机组要集中布置;
C.造价较低。特点:这种方案可以是一次回风也可以是二次回风,具体根据车间的大小情况而定;这类方案一般可以适用于洁净度为千级、万级、十万级等的净化无尘厂房。

净化工程气压规定:
对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室),由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染,所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准,洁净室,采用0.45m/s.但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的,为了节能,洁净室施工,也都在探求降低风速的可行性。在我国,《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范)都是这样规定的垂直平行流(层流)洁净室≥0.25m/s水平平行流(层流)洁净室≥0.35m/s

净化技术的设备发展
对于半导体设备来讲,净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的是集成电路,而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。

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