磁控溅射镀膜机的注意事项1、保持机器内舱各部位的清洁；2、关注真空度指标；3、检查并记录抽真空的时间，如有延长，立刻检查造成的原因；4、记录溅射功率和时间（一般溅射机的银靶设定功率为0.6千瓦，金靶的设定功率为0.75千瓦，铬的行走速率为9000pps），如有异常，立刻检查造成的原因；5、根据镀出石英振子的散差，调整遮挡板的各部尺寸；6、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其牢固度；7、测试并记录镀好的石英振子主要指标，如：频率、电阻、DLD等；8、将不良品挑出：电极错位、划伤、脏污、掉银等（工位上要有不良品示意图）。以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射镀膜设备机的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。 磁控溅射的原理创世威纳—磁控溅射供应商，我们为您带来以下信息。成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。?创世威纳拥有的技术，我们都以质量为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射感兴趣，欢迎点击左右两侧的在线客服，或拨打咨询电话。磁控溅射镀膜设备及技术（专利技术）该设备选用磁控溅射镀一层薄薄的膜（MSP）技术性，是这种智能、的镀膜设备。可依据客户规定配备转动磁控靶、单脉冲溅射靶、中频孪生溅射靶、非均衡磁控溅射靶、霍耳等离子技术源、考夫曼离子源、直流电单脉冲累加式偏压开关电源等，组态灵便、主要用途普遍，主要用于金属材料或非金属材料（塑胶、夹层玻璃、瓷器等）的钢件镀铝、铜、铬、钛金板、银及不锈钢板等陶瓷膜或式陶瓷膜及渗金属材料DLC膜，所镀一层薄薄的膜层匀称、高密度、粘合力强等特性，可普遍用以电器产品、时钟、陶瓷艺术品、小玩具、大灯反光罩及其仪表设备等表层装饰艺术镀一层薄薄的膜及工磨具的作用镀层。2离子轰击渗扩技术性的特性(1)离子轰击渗扩更快因为选用低温等离子无心插柳，磁控溅射镀膜机，为渗剂分子和正离子的吸咐和渗人造就了高宽比活性的表层，提升了结晶中缺点的相对密度，比传统式的汽体渗扩技术性速率明显增强。在一样加工工艺标准下，渗层深度1在0.05二以内，比汽体渗扩提升1倍。在较高溫度下，1h就能达lmm厚。(2)对钢件表层改..如需了解更多磁控溅射镀膜机的相关信息，欢迎关注创世威纳网站或拨打图片上的热点电话，我司会为您提供、周到的服务。 磁控溅射镀膜机-创世威纳科技(图)由北京创世威纳科技有限公司提供。磁控溅射镀膜机-创世威纳科技(图)是北京创世威纳科技有限公司（www.weinaworld.com.cn）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：苏经理。 产品：创世威纳供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
